PVD涂層具有超高的硬度，但大部分廠商的涂層都因?yàn)樘捕婚_(kāi)始切削就在刃口崩落了。納米涂層的研發(fā)工程師在厚的高硬度h膜下設(shè)計(jì)了一層應(yīng)力吸收S膜，大幅增加了硬膜的穩(wěn)定性，讓刀具壽命提升2到5倍，是涂層產(chǎn)業(yè)的創(chuàng)舉。刃口硬涂層沒(méi)有微崩，切削出來(lái)的產(chǎn)品表面更光亮，符合高精度切削要求。
● 針對(duì)高速與干式切削帶來(lái)的大量溫度問(wèn)題，納米涂層在高硬度h膜上設(shè)計(jì)了一層抗高溫的R膜，讓切削熱盡量排斥在刀具外面，大部分熱量被切屑帶走。
● 最表面還需要針對(duì)被加工的材料設(shè)計(jì)一個(gè)低摩擦系數(shù)的L膜，不同粘性被加工材如不銹鋼、鈦合金、高溫合金等需要設(shè)計(jì)不同的L膜。
氮化鈦涂層是自PVD技術(shù)發(fā)明以來(lái)，最常見(jiàn)的一種涂層，具有較高的性價(jià)比，也是在過(guò)去的年份中運(yùn)用最廣泛的一種PVD涂層,它具有較高的薄膜硬度。用磁控濺射方法沉積的氮化鈦沉積速度慢，表面顆粒小所以表面光滑，而且液滴等表面缺限少,但是表面硬度較低。用磁控陰極弧的方法沉積的氮化鈦，沉積速度快，但表面顆粒大，所以表面光潔度較差，液滴等表面缺陷也較多，但是可以獲得較高的表面硬度。
客戶需要根據(jù)產(chǎn)品特性和要求來(lái)決定采用何種方法獲得氮化鈦（TIN）涂層。勝倍爾超強(qiáng)鍍膜的鍍膜機(jī)自身帶有增強(qiáng)型磁控濺射和磁控陰極弧兩種方法，可以靈活根據(jù)工件來(lái)選擇不同的方法獲得氮化鈦（TiN）涂層。
氮化鉻是什么
中文名稱氮化鉻
CAS NO.12053-27-9
英文名稱 chromium nitride
英文別名 Chromium nitride (Cr2N); Chromium nitride; Dichromium nitride; chromic nitrogen(-3) anion[1]
EINECS 246-016-3
PVD的全寫為Physical Vapor Deposition,中文翻譯為物理氣相沉積。
采用陰極電弧等離子體沉積技術(shù)。陰極電弧等離子體沉積是相對(duì)較新的薄膜沉積技術(shù)，它在許多方面類似于離子鍍技術(shù)。其優(yōu)點(diǎn)：在發(fā)射的粒子流中離化率高，而且這些離化的離子具有較高的動(dòng)能（40-100eV)。許多離子束沉積的優(yōu)點(diǎn)，如提粘著力，增加態(tài)密度、對(duì)化合物膜形成具有高反應(yīng)率等優(yōu)點(diǎn)在陰極電弧等離子體沉積中均有所體現(xiàn)。而陰極電弧等離子體沉積又具有自己一些獨(dú)特優(yōu)點(diǎn)，如可在較多復(fù)雜形狀基片上進(jìn)行沉積，沉積率高，涂層均勻性好，基片溫度低，易于制備理想化學(xué)配比的化合物或合金。
通過(guò)蒸發(fā)過(guò)程將陰極材料蒸發(fā)是源于高電流密度，所得到的蒸發(fā)物由電子、離子、中心氣相原子和微粒組成。在陰極電弧點(diǎn)，材料幾乎百分百被離化，這里離子在幾乎垂直于陰極表面的方向發(fā)射出去，當(dāng)帶有高能量的鉻離子碰到氮?dú)夂蟊銜?huì)馬上產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，變成氣態(tài)的氮化鉻分子了。
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