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供應ZESTRON HYDRON SE230A水基堿性清洗劑 供應ZESTRON HYDRON SE230A水基堿性清洗劑//供應ZESTRON HYDRON SE230A水基堿性清洗劑

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公 司: 深圳市俊基瑞祥科技有限公司 
發(fā)布時間:2023年08月21日
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公 司:深圳市俊基瑞祥科技有限公司

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詳細說明

    HYDRON SE 230A
專為半導體電子除助焊劑應用設計的堿性清洗劑
專為浸沒式清洗工藝設計的單相水基型清洗劑,能夠有效去除多種半導體電子器件芯片焊接后的助焊劑殘留物,包括引線框架、分立器件、功率模塊、功率LED、倒裝芯片和CMOS,且能夠保證有效去除銅表面的氧化層。

與其他清洗劑相比的優(yōu)勢:
為引線鍵合、封裝和膠裝等后續(xù)工藝提供無污點且激活的銅表面并在一定時間內(nèi)保持活性。
在處理銅、鋁、鎳等敏感金屬材料時表現(xiàn)出良好的材料兼容性
非常低的表面張力,在清洗低間隙元器件的底部殘留物時擁有卓越表現(xiàn)
應用過程十分簡便,在浸沒式清洗工藝中擁有卓越表現(xiàn)
能夠輕易被去離子水漂洗干凈,不會留下任何殘留


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