高純度Mn
Mn是一種脆性材料，在靶材的加工上非常困難。我們通過*合適的生產(chǎn)條件，實(shí)現(xiàn)了高純度Mn靶材的生產(chǎn)。
Mn合金
我們通過燒結(jié)，熔化工序?qū)τ型蔀橐环N新的磁性層材料的Mn合金靶材進(jìn)行生產(chǎn)。大多數(shù)Mn合金是易碎的，因此通常是通過燒結(jié)工序進(jìn)行生產(chǎn)。此外，由于可作為磁性層進(jìn)行使用，我們收到了許多關(guān)于低氧含量產(chǎn)品和靶材大型化的要求。
為了滿足這些要求，以供應(yīng)各種熔融制靶材為目標(biāo)，我們不斷地進(jìn)行各種挑戰(zhàn)。
Mn合金：MnxGa100-x (55≦x≦75)
Mn合金作為一種不含稀有金屬以及稀土的磁性材料，近年來引起了人們的廣泛關(guān)注，我們可以對大型的熔制靶材進(jìn)行供應(yīng)。
Co合金
Co合金是用于各種磁性器件的材料。以Co-Fe-B靶材為首，我們擁有生產(chǎn)各種組成的Co合金靶材的實(shí)績。
例如：Co-Fe, Co-Fe-α, Co-Ni, Co-Zr-Nb, Co-Zr-Nb-Ta等
熔融制Co基純赫斯勒合金
純赫斯勒合金X2YZ是一種有望應(yīng)用于磁共振成像(MARM)以及磁傳感器等磁性器件的材料。我們一直以來對燒結(jié)靶材進(jìn)行了供應(yīng)，但由于『靶材與薄膜間的成分偏差』等原因使其應(yīng)用范圍受到了限制。此外，由于應(yīng)用于磁性層，顧客們大多數(shù)希望購買到低氧含量的產(chǎn)品。
熔制靶材有望解決與燒結(jié)靶材有關(guān)的問題。
其他合金 Co-Fe-B
Co-Fe-B是一種脆性材料，大多數(shù)情況下通過燒結(jié)工序進(jìn)行加工。我們通過熔融法確立了低氧化技術(shù)，并且運(yùn)用高純度化技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高純度靶材的加工生產(chǎn)。
Co-Fe-B的構(gòu)成比以及添加第4元素構(gòu)成Co-Fe-B-α等，根據(jù)客戶的需求可進(jìn)行任意訂制。
MgO靶材
MgO是下一代HDD介質(zhì)的模板層，TMR磁頭以及磁性存儲器（如MRAM）中不可缺少的功能性材料。
早在2002年，我們就開始開發(fā)和生產(chǎn)適合TMR元件的濺射靶，并一直提供具有“高純度”、“高密度”和“低顆�！碧卣鞯腗gO靶材。
MgO靶材・鏡面研磨品
熔融制低氧化Ir-Mn靶材
Ir-Mn*大的特點(diǎn)在于它的非揮發(fā)性以及可進(jìn)行無限的重寫, 是一種被用作為反鐵磁層的非易失性磁性存儲器(MRAM)。我們確立了熔融制靶材的生產(chǎn)方法并對其實(shí)現(xiàn)了低氧化。
與一般所使用的燒結(jié)制靶材相比，可防止氧氣對其它構(gòu)造層產(chǎn)生的影響。
背板的生產(chǎn)
基于我們多年來在濺射靶及其鍵合方面所取得的技術(shù)，我們能夠制造出滿足任何要求的背板。我們的背板(接合靶材所使用的背板)可根據(jù)客戶的用途，對以無氧銅為首的各種銅合金，鐵，不銹鋼，鋁，鋁合金，鉬以及鈦進(jìn)行嚴(yán)格的篩選。此外，我們還將萬全地處理上述 |
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半導(dǎo)體材料
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