產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
Load-lock式Plasma CVD設(shè)備CC-200/400是小型的使用便利的可對(duì)應(yīng)從研究開(kāi)發(fā)到量產(chǎn)的設(shè)備。
產(chǎn)品特性：
• 27.12MHz高密度等離子制程
• SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系：可對(duì)應(yīng)SiO2膜
• 以CF4+O2 Plasma實(shí)現(xiàn)腔體清潔功能
• 可對(duì)應(yīng)有機(jī)EL（OLED）的低溫成膜用heater
• 使用Tray可搬送多種基板尺寸
• 通過(guò)使用真空Box實(shí)現(xiàn)C系列的間接連續(xù)制程（Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200）
產(chǎn)品應(yīng)用：
• 功率器件
• LED、LD、高速device等化合物相關(guān)
• 有機(jī)EL（OLED）開(kāi)發(fā)
• 太陽(yáng)電池開(kāi)發(fā) |
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