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北京京邁研材料科技有限公司
| 聯(lián)系人：張英
女士 (銷售) |
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手 機(jī)：13301329625  |
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| 氧化鉿靶材HfO2磁控濺射靶材 |
科研實(shí)驗(yàn)專用氧化鉿靶材HfO2磁控濺射靶材
產(chǎn)品介紹
氧化鉿（HfO2）常溫常壓下為白色固體，熔點(diǎn)：2758℃，沸點(diǎn)：5400℃，密度：9.68g/cm3，難溶于水，常溫常壓下穩(wěn)定，避免與酸接觸；當(dāng)加熱到高溫時(shí)鉿與氧直接化合生成氧化鉿；也可通過(guò)其硫酸鹽或草酸鹽經(jīng)灼燒而得。用于光譜分析及催化劑體系，耐熔材料；是一種具有寬帶隙和高介電常數(shù)的陶瓷材料，近來(lái)在工業(yè)界特別是微電子領(lǐng)域被引起極度的關(guān)注，由于它*可能替代目前硅基集成電路的核心器件金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管(MOSFET)的柵極絕緣層二氧化硅(SiO2)，以解決目前MOSFET中傳統(tǒng)SiO₂/Si結(jié)構(gòu)的發(fā)展的尺寸極限問(wèn)題。
產(chǎn)品參數(shù)
中文名 二氧化鉿 化學(xué)式 HfO2 沸點(diǎn) 5400℃
分子量 210.49 熔點(diǎn) 2758℃ 密 度 9.68g/cm3
純度 99.99%
【關(guān)于我們】
服務(wù)項(xiàng)目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制�？蒲袉挝回浀礁犊睿|(zhì)量保證，售后無(wú)憂！
產(chǎn)品附件：發(fā)貨時(shí)產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝
適用儀器：多種型號(hào)磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備 
質(zhì)量控制：嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測(cè)手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度；可提供質(zhì)檢報(bào)告。 
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢測(cè)→包裝出庫(kù)
陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差，連續(xù)長(zhǎng)時(shí)間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強(qiáng)烈建議您，選購(gòu)陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無(wú)氧銅作為背靶。
注 ：高純銦的熔點(diǎn)約為156℃，靶材工作溫度超過(guò)熔點(diǎn)會(huì)導(dǎo)致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
建議：陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過(guò)3W/cm2。 |
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