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北京冠金利新材料科技有限公司
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| 高致密高均勻鉭靶材 鉭靶材99.95% 金屬鉭靶材 |
高致密高均勻鉭靶材 鉭靶材99.95% 金屬鉭靶材
北京冠金利新材料科技有限公司為您提供各種高純金屬靶材：射頻濺射用鉭靶材 直流濺射用鉭靶材 離子鍍?yōu)R射用鉭靶材 鉭靶材綁定焊接 多弧鉭靶材 鉭靶材定做 平面鉭靶材 直徑60mm鉭靶材 中頻交流反應(yīng)濺射用鉭靶材 非對(duì)稱脈沖濺射用鉭靶材 離子束濺射用鉭靶材 非平衡磁控濺射用鉭靶材 反應(yīng)磁控濺射用鉭靶材 厚5mm鉭靶材 高致密高均勻鉭靶材 直徑50.8mm鉭靶材 精車表面鉭靶材 精車表面鉭靶材 進(jìn)口鉭靶材 磁控濺射鉭靶材 濺射鉭靶材 實(shí)驗(yàn)用鉭靶材 低公差鉭靶材 鉭 科研用鉭靶材 金屬鉭靶材 高純鉭靶材 圓形鉭靶材 鉭靶材99.95%
北京冠金利新材料科技有限公司其它高純靶材及鍍膜材料如下：
金屬單質(zhì)及部分合金靶材：鋁靶Al，銀靶Ag，金靶Au ，鈷靶Co，鉻靶 Cr，銅靶Cu，鎳靶Ni，鈦靶Ti， 鋅靶Zn ，鎂靶Mg ，鈮靶Nb ，錫靶Sn，銦靶In， 鐵靶Fe 鋯靶Zr 鉑靶Pt 鉭靶Ta 鍺靶Ge 硅靶Si 鎢靶 W鉿靶 Hf釓靶Gd 釤靶Sm,鏑靶Dy，鈰靶Ce，釔靶Y，鑭靶La，錸靶Re，釕靶Ru，鈀靶Pd，銠靶Rh，鉍靶Bi，鈦鋁Ti-Al、鋁硅Al-Si、鋁銅Al-Cu、鋁鈦Al-Ti、銀銅Ag-Cu、鋁鎂Al-Mg、鈷鐵硼Co-Fe-B、銅銦鎵Cu-In-Ga、鐵錳Fe-Mn、銦錫In-Sn、鈷鐵Co-Fe、鎳鈷Ni-Co、鎳鐵Ni-Fe、鎳鉻Ni-Cr、鎳鋯Ni-Zr、鎳鋁Ni-Al、鎳銅Ni-Cu、鎳釩Ni-V、鎢鈦W-Ti、鋅鋁Zn-Al、鋁鈦硼Al-Ti-B、鋁鈧Al-Sc、釩鋁 V-Al、鐵V-Al-Fe、銅錫Cu-Sn、鋯鋁Zr-Al、釩鋁V-Al、硼鐵B-Fe等
陶瓷靶材：氮化硅靶Si3N4、氮化鋁靶AIN，氮化硼靶BN，氮化鉻靶材CrN，氮化鋯靶ZrN，氮化鈦靶TiN，碲化鎘靶CdTe，二硅化鉬靶MoSi2 二硫化鉬MoS2，二硼化鋯靶ZrB2，二硼化鈦靶TiO2, 二氧化鋯靶ZrO2，二氧化硅靶SiO2，二氧化錳MnO2，二氧化鈰靶CeO2，二氧化鈦靶TiO2，二氧化錫靶SnO2，氟化鋇靶BaF2，氟化鈣靶CaF2，氟化鋁靶AlF3，氟化鎂靶MgF2，氟化鈰靶CeF2，硫化鎘靶CdS，硫化亞銅Cu2S，硫化鋅靶ZnS，硼靶B，硼化鉿靶HfB2，三氧化二鉻靶Cr2O3，三氧化二錳Mn2O3，三氧化鎢靶WO3，鈦酸鋇靶BaTiO3，鈦酸鐠靶PrTiO3，石墨靶C，碳化鋯靶ZrC，碳化鉻靶Cr3C2，碳化硅靶SiC，碳化鉿靶HfC，碳化硼靶B4C，碳化鈦靶TiC，碳化鎢靶W2C，五氧化二鈮靶Nb2O5，氧化鉺靶Er2O3，氧化鈷靶CoO，氧化鉿靶HfO2，氧化鎵靶Ca2O3，氧化鈧靶Sc2O3，氧化鋁靶Al2O3，氧化鎂靶MgO，氧化鎳靶NiO，氧化釹靶Nd2O3，氧化鉭靶Ta2O5，氧化鐵靶Fe2O3，氧化銅靶CuO，氧化鋅靶ZnO，氧化釔靶Y2O3，氧化銦靶In2O3，ITO靶（In2O3+SnO2），AZO靶(ZnO+AL203)，LGZO靶， |
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