無機(jī)納米粉體濕法分散機(jī)，改進(jìn)型納米粉體分散機(jī) ，濕法納米粉體剪切分散機(jī)，德國(guó)研磨分散機(jī)，立式高速研磨分散機(jī)，不團(tuán)聚窄粒徑高速分散機(jī)，高轉(zhuǎn)速納米粉體分散機(jī)，直立式模塊化分散機(jī)可以很好的解決顆�；蚍垠w漿料易團(tuán)聚、分散細(xì)化不均勻等問題。
的電子產(chǎn)業(yè)中，電子漿料等新型材料，具有環(huán)保、高效和節(jié)能等特點(diǎn)，已經(jīng) 逐步取代傳統(tǒng)電路器材(如電阻絲、電熱管等)，應(yīng)用于電子產(chǎn)品中。例如，等離子顯示器的 制造中，用于形成介質(zhì)、障壁、電極的材料通常是以漿料或干膜的形式使用，漿料或干膜中 均含有均值粒徑2 4um的無機(jī)超細(xì)粉末，例如低玻粉等，另外還包含有機(jī)組分，例如有機(jī) 溶劑、高分子樹脂、助劑等。 目前，制造超細(xì)粉末的方法有球(棒)磨、氣流粉碎、珠磨，研磨分散機(jī)等。其中，由于球(棒) 磨加工效率高，所以是zui為常用的粉碎手段。但是，在進(jìn)行干法球磨時(shí)，隨著粉體粒徑的減 小，粉體越發(fā)容易團(tuán)聚結(jié)塊，在容器內(nèi)未充分分散，使得無法進(jìn)一步粉碎。為此，常引入專 門的球磨介質(zhì)(例如水、乙醇等)進(jìn)行濕法球磨，以便粉體能夠保持充分分散和有效粉碎。 這種方法在很多情況下會(huì)對(duì)最終產(chǎn)品產(chǎn)生不利影響，因?yàn)橐氲念~外球磨介質(zhì)會(huì)與粉體表 面發(fā)生鍵合作用，
繼后的介質(zhì)去除與干燥工序很難wan全消除該鍵合作用對(duì)粉體表面的影 響，從而zui終會(huì)不利地影響超細(xì)粉體與漿料中有機(jī)成分之間的相容性，造成例如粘度變化、 粉體在載體中分散不良等。
球磨機(jī)/砂磨機(jī)：鋯珠易損，引入雜質(zhì)，更換維修成本高；
國(guó)內(nèi)膠體磨/研磨機(jī)/分散機(jī)：轉(zhuǎn)速普遍2930rpm，不超過3000rpm，作用力弱，粉碎研磨細(xì)度不夠，漿料穩(wěn)定性差；
德國(guó)IKN研磨分散機(jī)（改進(jìn)型膠體磨/改進(jìn)型分散機(jī)）：轉(zhuǎn)速范圍9000rpm-14000rpm-21000rpm，剪切力，研磨力，分散力更強(qiáng)，粒徑更小，分布范圍更窄，漿料穩(wěn)定性更好。產(chǎn)生均勻的尺寸減小率并產(chǎn)生窄的，一致的和可重復(fù)的粒度分布。
將無機(jī)粉末與使用的有機(jī)溶劑或助劑的至少一部分混合，在研磨分散機(jī)中高速研磨。 克服了以往干法球磨或棒磨中粉體易團(tuán)聚結(jié)塊的缺點(diǎn)，避免了濕法 球磨或棒磨中水、乙醇等常用介質(zhì)對(duì)粉體表面性能的影響，并減少了球磨或棒磨后材料干 燥工序以及調(diào)配漿料后的輥軋分散工序。
無機(jī)納米粉體濕法分散機(jī)，德國(guó)研磨分散機(jī)可以很好的解決顆�；蚍垠w漿料易團(tuán)聚、分散細(xì)化不均勻等問題，其已廣泛應(yīng)用于石墨烯、碳納米管、活性炭、納米粉體、高分子材料、石墨復(fù)合材料等多種新材料的制備應(yīng)用上。CMSD2000系列的膠體磨（錐體磨）分散頭的組合,可以先將物料（配入溶劑和分散劑）研磨細(xì)化,然后再經(jīng)過分散頭,進(jìn)行分散。這樣既可以細(xì)化又可以避免團(tuán)聚的現(xiàn)象,為新材料行業(yè)提供了強(qiáng)有力的設(shè)備力量。 |
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